二(三氟甲基)二硫

Bis(trifluoromethyl) disulfide
别名	二(三氟甲基)二硫醚
识别
CAS号	372-64-5 ^Y
PubChem	67795
ChemSpider	61112
SMILES	C(F)(F)(F)SSC(F)(F)F
性质
化学式	C2F6S2
摩尔质量	202.14 g·mol^−1
外观	液体
沸点	34.5 °C（307.6 K）[1]
若非注明，所有数据均出自标准状态（25 ℃，100 kPa）下。

二(三氟甲基)二硫（TFD）是一种二硫醚，化学式为CF₃SSCF₃，它曾用作熏蒸剂（英语：Fumigation）。[2]它是挥发性的液体，吸入剧毒，可引发严重的肺水肿。[3]

它可由二(三氯甲基)二硫和氟化钾反应[4]、三氟甲硫醇四甲基铵和碘反应[5]或三氟甲磺酰氯和三甲基膦反应[6]得到。二硫化碳、四氟化硫、氯气和氟化氢的反应也会产生二(三氟甲基)二硫，但同时会产生二(三氟甲基)三硫。[7]

参考文献

1. F. W. Bennett, G. R. A. Brandt, H. J. Emeléus, R. N. Haszeldine. Trifluoromethyl Derivatives of Phosphorus, Arsenic and Sulphur. Nature. 1950-08, 166 (4214): 225–225 [2021-09-14]. ISSN 0028-0836. doi:10.1038/166225a0. （原始内容存档于2021-09-14） （英语）.  （页面存档备份，存于互联网档案馆）
2. Fumigation with bis(trifluoromethyl) disulfide. [2021-09-14]. （原始内容存档于2021-09-12）.  （页面存档备份，存于互联网档案馆）
3. Progressive Pulmonary Pathology of Two Organofluorine Compounds in Rats. [2021-09-14]. （原始内容存档于2021-09-12）.  （页面存档备份，存于互联网档案馆）
4. Roman, Daniela Sustac. Bis(trifluoromethyl)​disulfide. e-EROS Encyclopedia of Reagents for Organic Synthesis, 2015. 1-2. ISBN 978-0-470-84289-8.
5. Wieland Tyrra, Dieter Naumann, Berthold Hoge, Yurii L. Yagupolskii. A new synthesis of trifluoromethanethiolates—characterization and properties of tetramethylammonium, cesium and di(benzo-15-crown-5)cesium trifluoromethanethiolates. Journal of Fluorine Chemistry. 2003-01, 119 (1): 101–107 [2021-09-14]. doi:10.1016/S0022-1139(02)00276-2. （原始内容存档于2020-06-03） （英语）.  （页面存档备份，存于互联网档案馆）
6. Hélène Chachignon, Mayaka Maeno, Hiroya Kondo, Norio Shibata, Dominique Cahard. Novel Use of CF 3 SO 2 Cl for the Metal-Free Electrophilic Trifluoromethylthiolation. Organic Letters. 2016-05-20, 18 (10): 2467–2470 [2021-09-14]. ISSN 1523-7060. doi:10.1021/acs.orglett.6b01026 （英语）. 
7. Kunshenko, B. V.; Omarov, V. O.; Muratov, N. N.; Yagupol'skii, L. M. Reaction of organic compounds with a sulfur tetrafluoride-hydrofluoric acid-halogenating agent system. IX. Reaction of perfluoroolefins with the SF4-HF-S2Cl2 system（俄文）. Zhurnal Organicheskoi Khimii, 1992. 28 (5): 892-900. ISSN 0514-7492.