亜ヒ化ホウ素
識別情報
CAS登録番号
12005-70-8
特性
化学式
B12 As2
モル質量
279.58 g/mol
密度
3.56 g/cm3 [ 2]
水 への溶解度
不溶
バンドギャップ
3.47 eV
構造
結晶構造
菱面体 , hR42 , No. 166
空間群
R3 m
格子定数 (a, b, c)
a = 0.6149 nm Å,b = 0.6149 nm Å,c = 1.1914 nm Å
格子定数 (α, β, γ)
α = 90°, β = 90°, γ = 120°
関連する物質
その他の陰イオン
亜酸化ホウ素
特記なき場合、データは常温 (25 °C )・常圧 (100 kPa) におけるものである。
ヒ化ホウ素 (ヒかホウそ、Boron arsenide)は、ホウ素 とヒ素 からなる化合物で、化学式はBAsである。亜ヒ化物B12 As2 等、ホウ素とヒ素の化合物は他にも知られている。純粋なヒ化ホウ素の合成は非常に難しく、単結晶 は常に欠陥を含む。
性質
ヒ化ホウ素はIII-V族半導体 であり、格子定数 は0.4777 nm、間接バンドギャップ は1.82 eVと測定される。920℃を超えると、B12 As2 に分解すると報告されている[ 3] 。融点 は2076℃である。熱伝導率 は非常に高く、300Kで約1300 W/(m・K)である[ 4] 。
基本的な物理的性質は、以下のように測定されている。
バンドギャップ:1.82 eV
屈折率 :657 nmで3.29
弾性率 :326 GPa
熱膨張率 :3.85×10-6 /K
ヒ化ガリウム と合金 を作ることができ、三元及び四元の半導体となる[ 5] 。
亜ヒ化物
二十面体 構造を持つB12 As2 を含む亜ヒ化物 もある。ホウ素原子と2原子からなるAs-As鎖の集合体で、R3m空間群 の菱面体 である。広いバンドギャップ(3.47 eV)で、放射による損傷に対して自己治癒能を持つ半導体になる[ 6] 。炭化ケイ素 等の基質 上で成長させられる[ 7] 。太陽電池 への応用も提案されているが[ 5] [ 8] 、この目的では今のところ使われていない。
利用
電子機器 の熱管理への利用が期待されている。実験的に窒化ガリウム トランジスタ と組み合わせて、炭化ケイ素またはダイヤモンド 基質上でGaN-BAsヘテロ構造を作ると、最高のGaN高電子移動度トランジスタ よりも良いパフォーマンスを示した。ヒ化ホウ素複合体は、伝導性が高く柔軟な放熱材料として開発された。
第一原理計算 によると、ヒ化ホウ素の熱伝導率は室温で2200 W/(m・K)以上とかなり高く、これはダイヤモンドやグラファイト に匹敵する値である[ 9] 。その後の実験では、欠陥が多かったため、わずか190 W/(m・K)の測定結果となった[ 10] [ 11] 。フォノン散乱 を取り入れたより最新の第一原理計算では、熱伝導率は1400 W/(m・K)と予測される[ 12] 。その後、欠陥のないヒ化ホウ素結晶の合成が実現し、予測と合致する1300 W/(m・K)という測定値が得られた[ 4] 。少量の欠陥を含む結晶では、900-1000 W/(m・K)の熱伝導率となる[ 13] [ 14] 。
出典
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外部リンク