H228 : Matière solide inflammable P210 : Tenir à l’écart de la chaleur/des étincelles/des flammes nues/des surfaces chaudes. — Ne pas fumer. P240 : Mise à la terre/liaison équipotentielle du récipient et du matériel de réception. P241 : Utiliser du matériel électrique/de ventilation/d’éclairage/…/antidéflagrant. P280 : Porter des gants de protection/des vêtements de protection/un équipement de protection des yeux/du visage. P370+P378 : En cas d’incendie : utiliser … pour l’extinction.
Le carbonitrure de titane est souvent utilisé en couche mince notamment pour les revêtements d'outils de tour. Il est possible de le déposer de plusieurs manières :
L'avantage du carbonitrure à température modérée est que la couche se développe uniformément en raison du groupe cyanure de l'acétonitrile CH3CN. Seul le carbonitrure 50/50 peut être produit en l'absence d'azote N2. Dans le cas du carbonitrure HT, en revanche, les différentes vitesses de réaction du méthane CH4 et de l'azote jouent un rôle important.
↑(en) Linus von Fieandt, Kristina Johansson, Erik Lindahl, Tommy Larsson, Mats Boman et David Rehnlund, « Corrosion properties of CVD grown Ti(C,N) coatings in 3.5 wt-% NaCl environment », Corrosion Engineering, Science and Technology, vol. 53, no 4, , p. 316-320 (DOI10.1080/1478422X.2018.1467150, lire en ligne).
↑(en) P. C. Jindal, A. T. Santhanam, U. Schleinkofer et A. F. Shuster, « Performance of PVD TiN, TiCN, and TiAlN coated cemented carbide tools in turning », International Journal of Refractory Metals and Hard Materials, vol. 17, nos 1-3, , p. 163-170 (DOI10.1016/S0263-4368(99)00008-6, lire en ligne).
↑(en) L. von Fieandt, T. Larsson, M. Boman et E. Lindahl, « Texture formation in chemical vapor deposition of Ti(C,N) », Journal of Crystal Growth, vol. 508, , p. 90-95 (DOI10.1016/j.jcrysgro.2018.12.030, lire en ligne).
↑(en) L. von Fieandt, K. Johansson, T. Larsson, M. Boman et E. Lindahl, « On the growth, orientation and hardness of chemical vapor deposited Ti(C,N) », Thin Solid Films, vol. 645, , p. 19-26 (DOI10.1016/j.tsf.2017.10.037, lire en ligne).
↑(en) Maoxiang Zhu, Sofiane Achache, Pascal Boulet, Agathe Virfeu, Jean-François Pierson et Frédéric Sanchette, « Effects of deposition parameters on the microstructure and mechanical properties of Ti(C,N) produced by moderate temperature chemical vapor deposition (MT-CVD) on cemented carbides », Vacuum, vol. 195, , article no 110650 (DOI10.1016/j.vacuum.2021.110650, lire en ligne).