ФотошаблонФотошаблон — скляна або інша пластина або полімерна плівка зі сформованим на її поверхні малюнком елементів схем з матеріалу, що не пропускає актинічного випромінювання. Фотошаблон є одним з основних інструментів при створенні заданого рельєфного захисного покриття при проведенні фотолітографії в планарної технології. Залежно від матеріалу плівкового покриття розрізняють фотошаблони на основі:
Типи фотошаблонівНегативний фотошаблон (темнопольний) — фотошаблон, на якому зображення елементів схеми представлено у вигляді світлих ділянок на непрозорому фоні. Позитивний фотошаблон (світлопольний) — фотошаблон, на якому зображення елементів схеми представлено у вигляді непрозорих для актинічного випромінювання ділянок на світлому прозорому тлі. Металізований фотошаблон — фотошаблон, на якому зображення елементів схеми сформовано тонкою металевою плівкою. Транспарентний (кольоровий) фотошаблон — фотошаблон, на якому зображення елементів схем сформовано покриттям, що не пропускає актинічного випромінювання і пропускає неактинічне (видима область спектра) для фоторезисту випромінювання. Емульсивний фотошаблон — фотошаблон, на якому зображення елементів схеми утворено галоїдо-срібною фотографічної емульсією. Ринок виробництва фотошаблонівНа щорічній конференції SPIE, компанія Photomask Technology надала дослідження світового ринку виробництва фотошаблонів для мікроелектроніки. Станом на 2009 рік найбільшими виробниками були:[1]
Більшість найбільших виробників мікроелектроніки, такі як Intel, GlobalFoundries, IBM, NEC, TSMC, Samsung і Micron Technology, мали або власні потужності з виробництва шаблонів, або створювали між собою спільні підприємства для цих цілей. Вартість створення виробництва фотошаблонів (так званого Mask shop[en]) для техпроцесу 45 нм оцінюється у 200-500 млн доларів США, що створює істотні перешкоди для виходу на цей ринок. Вартість одного фотошаблона для замовника складає від 1 до 10 тисяч доларів (оцінки від 2007 року)[2] або до 200 тисяч (оцінка SEMATECH від 2011 року)[3], залежно від вимог. Найбільш дорогими є фазозсувні маски для самих тонких техпроцесів. Для виробництва мікросхеми на старому техпроцесі потрібно набір з порядку 20-30 масок різної вартості або більше[3]. Для найбільш сучасних техпроцесів, наприклад 22 нм, потрібно понад 50 масок.[4] Тривалість виготовлення та перевірки однієї маски складає в середньому від 5-7 до 23 днів залежно від використаних технологій.[5] Одна маска з досліджень SEMATECH, використовується для виготовлення приблизно від 0,5 тис. до 5 тис. напівпровідникових пластин (wafers).[3] Примітки
Література
|