يؤدي تشكيل طبقة من سيليسيد النحاس إلى إعاقة انتشار النحاس في السيليكون وذلك في مجال الأبحاث في علم المواد.[3]
التحضير
يحضر سيليسيد النحاس المستخدم في صناعة أنصاف النواقل وذلك عن طريق المعالجة الحرارية السريعةRapid thermal processing لفلز النحاس على ركازة من السيليكون، حيث يبدأ حدوث انتشار عند درجات حرارة تتراوح بين 250–300 °س. إن الاستمرار بعملية التخمير الحراري يعطي الشكل النهائي للسيليسيد.[4]
وقد تمكنت مجموعة بحث مؤخراً من تحضير بلورات نانوية من سيليسيد النحاس داخل أسلاك نانوية من السيليكون، مما يزيد من ناقليتها الكهربائية.[5]
الاستخدامات
تستخدم رقائق سيليسيد النحاس ضمن السيليسيدات الفلزية الأخرى في مجال الإلكترونيات.[6]
^Lee, C. S.; Gong, H.; Liu, R.; Wee, A. T. S.; Cha, C. L.; See, A.; Chan, L. (2001). "Study of copper silicide retardation effects on copper diffusion in silicon". Journal of Applied Physics. ج. 90 ع. 8: 3822–3824. DOI:10.1063/1.1343518.{{استشهاد بدورية محكمة}}: صيانة الاستشهاد: أسماء متعددة: قائمة المؤلفين (link)
^M. Setton, J. Van der Spiegel, B. Rothman (1990). "Copper silicide formation by rapid thermal processing and induced room‐temperature Si oxide growth". Applied Physics Letters. ج. 57 ع. 4: 357–359. DOI:10.1063/1.104105.{{استشهاد بدورية محكمة}}: صيانة الاستشهاد: أسماء متعددة: قائمة المؤلفين (link)
^Derek C. Johnson, James M. Mosby, Shannon C. Riha, Amy L. Prieto (2010). "Synthesis of copper silicide nanocrystallites embedded in silicon nanowires for enhanced transport properties". J. Mater. Chem. ج. 20: 1993–1998. DOI:10.1039/b919281f.{{استشهاد بدورية محكمة}}: صيانة الاستشهاد: أسماء متعددة: قائمة المؤلفين (link)
^E. A. Turenko, O. B. Yatsenko (2002). "Plasma Synthesis of Thin Copper Silicide Films on Single-Crystal Silicon". Inorganic Materials. ج. 38 ع. 3: 220–223. DOI:10.1023/A:1014710530668.
^In-Chul Kim, Dongjin Byun, Sangwha Lee, Joong Kee Lee (2006). "Electrochemical characteristics of copper silicide-coated graphite as an anode material of lithium secondary batteries". Electrochimica Acta. ج. 52 ع. 4: 1532–1537. DOI:10.1016/j.electacta.2006.02.055.{{استشهاد بدورية محكمة}}: صيانة الاستشهاد: أسماء متعددة: قائمة المؤلفين (link)
