电子束诱导沉积中的电子束往往由扫描电子显微镜或扫描透射电子显微镜提供,而离子束诱导沉积(IBID)则用聚焦离子束(英语:Focused ion beam)代替了电子束。前体材料一般是液体或固体;在沉积实验前,前体材料会被汽化或升华,之后在实验中以准确控制的速率进入扫描电镜所在的高真空腔。固态的前体也可以在腔内直接用电子束升华。若实验温度较高,或沉积过程中用到的是腐蚀性的气体,则会用一种特殊设计的沉积腔进行实验[1]:沉积腔与电镜隔离;电子束通过一个微米大小的开口进入沉积腔。这个开口的大小保持了电镜与沉积腔之间的压强差。此沉积模式已经被应用在钻石的电子束诱导沉积中[1][2]。
^ 1.01.1Kiyohara, Shuji; Takamatsu, Hideaki; Mori, Katsumi. Microfabrication of diamond films by localized electron beam chemical vapour deposition. Semiconductor Science and Technology. 2002, 17 (10): 1096. Bibcode:2002SeScT..17.1096K. doi:10.1088/0268-1242/17/10/311.
^Nayak, A.; Banerjee, H. D. Electron beam activated plasma chemical vapour deposition of polycrystalline diamond films. Physica Status Solidi (a). 1995, 151: 107. doi:10.1002/pssa.2211510112.
^ 8.08.18.2Luxmoore, I; Ross, I; Cullis, A; Fry, P; Orr, J; Buckle, P; Jefferson, J. Low temperature electrical characterisation of tungsten nano-wires fabricated by electron and ion beam induced chemical vapour deposition. Thin Solid Films. 2007, 515 (17): 6791. Bibcode:2007TSF...515.6791L. doi:10.1016/j.tsf.2007.02.029.
外部链接
"Nanofabrication: Fundamentals and Applications" Ed.: Ampere A. Tseng, World Scientific Publishing Company (March 4, 2008), ISBN981-270-076-5, ISBN978-981-270-076-6