zh %E4%B8%89%E7%94%B2%E5%9F%BA%E9%93%9D

三甲基铝
	IUPAC名; Trimethylalane
识别
CAS号	75-24-1
PubChem	16682925
ChemSpider	10606585
SMILES	C[Al](C)C;
InChI	1/3CH3.Al/h3*1H3;/rC3H9Al/c1-4(2)3/h1-3H3;
InChIKey	JLTRXTDYQLMHGR-MZZUXTGEAJ
性质
化学式	C6H18Al2
摩尔质量	144.17 g/mol; 72.09 g/mol (C3H9Al) g·mol⁻¹
外观	无色液体
密度	0.752 g/cm3
熔点	15 °C（288 K）
沸点	125 °C（398 K）（）
溶解性（水）	与水反应
蒸氣壓	1.2 kPa (20 °C); 9.24 kPa (60 °C)
黏度	1.12 cP (20 °C); 0.9 cP (30 °C)
热力学
ΔfHm⦵298K	−136.4 kJ/mol
S⦵298K	209.4 J/mol·K
热容	155.6 J/mol·K
危险性
警示术语	R：R14, R17, R34
安全术语	S：S16, S43, S45
欧盟分类	F C
	GHS危险性符号;
GHS提示词	危险
H-术语	H250, H260, H314
P-术语	P222, P223, P231+232, P280, P370+378, P422
主要危害	自燃性
NFPA 704	4 3 3 W
	若非注明，所有数据均出自标准状态（25 ℃，100 kPa）下。

三甲基铝是一个化合物，化学式是Al₂(CH₃)₆, 可以缩写为Al₂Me₆, (AlMe₃)₂或者TMA。它是一种自燃的无色液体，在工业上是很重要的有机铝化合物。它的蒸气散发到空气中后会产生白烟（氧化铝）。

结构与化学键

Al₂Me₆在常温常压下是二聚体^[3]，在结构上和乙硼烷相似。像乙硼烷一样，这个化合物同样有两个三中心两电子键：在两个铝原子之间有一个共用的甲基。端位的Al-C键和中间的Al-C键的距离分别是1.97和2.14埃^[4]，中间甲基上的每个碳原子都被三个氢原子和两个铝原子包围。这些甲基在分子内和分子间可以自由转换。

三中心两电子键是"缺少电子"的分子而且倾向于与路易斯碱反应，产物含有两中心两电子键。例如和氨反应生成加合物 R₃N-AlMe₃。Al₂Me₆与氯化铝反应生成的(AlMe₂Cl)₂是另一个遵守八隅体规则的反应产物。

AlMe₃的单体含有一个铝原子和三个甲基，这种单体仅会在高温低压下存在^[3]。VSEPR理论预言了它如同BMe₃一样是三角平面（有一个三重轴）对称。后来电子衍射的结果也证实了这个预言。^[5]

制备与应用

TMA可以通过两步反应制取，总反应式如下：

2 Al + 6 CH₃Cl + 6 Na → Al₂(CH₃)₆ + 6 NaCl

TMA主要用来生产甲基铝氧烷，用于活化烯烃聚合的齐格勒-纳塔催化剂。TMA也作为甲基化试剂。用于亚甲基酯和酮的Tebbe试剂就是由TMA制备的。TMA也用在探空火箭上，用作研究上层大气风模式的示踪剂。

通过化学气相沉积或原子层沉积过程，TMA也可用于制造半导体的沉积高介電係數电介质薄膜，例如Al₂O₃。

TMA与叔胺 DABCO形成化合物，这比直接处理TMA本身更安全^[6]。

在Cp₂ZrCl₂（二氯二茂锆）的催化下，(CH₃)₂Al-CH₃能够与炔烃反应生成烯基铝，这个反应在被称为carboalumination的有机合成反应中起作用^[7]。

NASA的ATREX任务利用TMA与空气接触产生的白烟研究高空急流。

半导体级TMA

TMA是有机金属化学气相沉积法（MOVPE）制造含铝半导体（如AlAs, AlN, AlP, AlSb, AlGaAs, AlInGaAs, AlInGaP, AlGaN, AlInGaN, AlInGaNP等）中有机金属的重要来源。TMA的质量标准主要关注元素杂质、氧化杂质和有机杂质的含量。

参看

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外部链接

NASA ATREX mission article（页面存档备份，存于互联网档案馆）.

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[Carlsson-3] 3.0 ^3.1 Carlsson, J.; Gorbatkin, S.; Lubben, D.; Greene, J. E. Thermodynamics of the homogeneous and heterogeneous decomposition of trimethylaluminum, monomethylaluminum, and dimethylaluminumhydride: Effects of scavengers and ultraviolet-laser photolysis. Journal of Vacuum Science and Technology B. 1991, 9 (6): 2759–2770. doi:10.1116/1.585642.

[4] Holleman, A. F.; Wiberg, E. Inorganic Chemistry. San Diego: Academic Press. 2001. ISBN 0-12-352651-5.

[5] Almennin, A.; Halvorse, S.; Haaland, A. Gas Phase Electron Diffraction Investigation of Molecular Structures of Trimethylaluminum Monomer and Dimer. Acta Chemica Scandinavica. 2005, 44 (15): 2232–2234. doi:10.3891/acta.chem.scand.25-1937.

[6] Biswas, K.; Prieto, O.; Goldsmith, P. J.; Woodward, S. Remarkably Stable (Me₃Al)₂ · DABCO and Stereoselective Nickel-Catalyzed AlR₃ (R = Me, Et) Additions to Aldehydes. Angewandte Chemie International Edition. 2005, 44 (15): 2232–2234. PMID 15768433. doi:10.1002/anie.200462569.

[7] Negishi, E.; Matsushita, H. (1984). "Palladium-Catalyzed Synthesis of 1,4-Dienes by Allylation of Alkenyalane: α-Farnesene [1,3,6,10-Dodecatetraene, 3,7,11-trimethyl-]". Org. Synth. 62: 31; Coll. Vol. 7: 245.

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