Schmidt ist bekannt für seine Beiträge zur Aufklärung und Vermeidung lichtinduzierter Degradationsphänomene in Solarzellen.[4][5] So konnte er erstmals nachweisen, dass der Dotierstoff im Silizium-Basismaterial der Solarzelle einen entscheidenden Einfluss auf die Degradationseigenschaften hat und der Dotierstoff Bor möglichst vermieden werden sollte, wohingegen Gallium oder Phosphor keine Degradation zur Folge haben.[6] Diese Arbeiten hatten wesentlichen Einfluss in Bezug auf die Auswahl des Silizium-Ausgangsmaterials in hocheffizienten Solarzellen. Jan Schmidt hat auch zur Oberflächenpassivierung von Siliziumsolarzellen beigetragen[7] und das heute in industriell gefertigten Solarzellen eingesetzte Al2O3/SiNx-Passivierschichtsystem entwickelt.[8][9]
↑J. Schmidt, A. G. Aberle, R. Hezel: Investigation of carrier lifetime instabilities in Cz-grown silicon. In: Conference Record of the Twenty Sixth IEEE Photovoltaic Specialists Conference - 1997. IEEE, Anaheim, CA, USA 1997, ISBN 978-0-7803-3767-1, S.13–18, doi:10.1109/PVSC.1997.653914 (ieee.org [abgerufen am 15. März 2022]).
↑J. Schmidt, D. Bredemeier, D. C. Walter: On the Defect Physics Behind Light and Elevated Temperature-Induced Degradation (LeTID) of Multicrystalline Silicon Solar Cells. In: IEEE Journal of Photovoltaics. Band9, Nr.6, November 2019, ISSN2156-3381, S.1497–1503, doi:10.1109/JPHOTOV.2019.2937223 (ieee.org [abgerufen am 15. März 2022]).
↑J. Schmidt, R. Peibst, R. Brendel: Surface passivation of crystalline silicon solar cells: Present and future. In: Solar Energy Materials and Solar Cells. Band187, 1. Dezember 2018, ISSN0927-0248, S.39–54, doi:10.1016/j.solmat.2018.06.047 (sciencedirect.com [abgerufen am 15. März 2022]).
↑Patent EP2220689B1: Verfahren zum Herstellen einer Solarzelle mit einer oberflächenpassivierenden Dielektrikumdoppelschicht und entsprechende Solarzelle. Angemeldet am 6. November 2008, veröffentlicht am 27. August 2014, Anmelder: Institut für Solarenergieforschung GmbH, Technische Universiteit Eidhoven, Erfinder: Jan Schmidt, Bram Hoex.
↑J. Schmidt, B. Veith, R. Brendel: Effective surface passivation of crystalline silicon using ultrathin Al2O3 films and Al2O3/SiNx stacks. In: physica status solidi (RRL) - Rapid Research Letters. 17. September 2009, S.287–289, doi:10.1002/pssr.200903272 (wiley.com [abgerufen am 15. März 2022]).