محلول بيرانا

تمثيل للجزيئات الفعالة المكونة لمحلول بيرانا من حمض بيروكسي أحادي الكبريتيك (H₂SO₅) وبيروكسيد الهيدروجين (H₂O₂).

محلول بيرانا هو مزيج (خليط) كيميائي مكون من حمض الكبريتيك H₂SO₄ وبيروكسيد الهيدروجين H₂O₂، ويستخدم بكثرة في المختبرات الكيميائية من أجل إزالة البقايا العضوية من على الأسطح المستخدمة للتطبيقات الخاصة، مثل أسطح الرقاقات السيليكونية.[1]

يعد هذا المحلول من المؤكسدات شديدة القوة، وقادر على تفكيك أغلب المواد العضوية، ويشير الاسم إلى سمك بيرانا الضاري، كنايةً عن الخواص الأكّالة لهذا المحلول.

التركيب

يمكن أن يحضر هذا المحلول بعدة نسب مزج مختلفة، وجميعها تدعى محلول بيرانا، ولكن التحضير النمطي يتضمن مزج ثلاثة أجزاء من حمض الكبريتيك المركز من جزء واحد تركيزه 30% وزناً من بيروكسيد الهيدروجين.[1] وهناك عدة وصفات تحضير أخرى، منها المزج بنسبة 1:4 أو 1:7؛ كما يضاف في بعض الأحيان مواد مثل الأمونيا إلى المزيج ليستحصل على ما يسمى محلول بيرانا القاعدي.[2][3]

طالع أيضاً

• ماء ملكي
• حمض بيروكسي أحادي الكبريتيك (حمض كارو)

المراجع

1. admin (28 Dec 2016). "How Piranha Etch is Used in Silicon Wafer Cleaning". Modutek (بالإنجليزية الأمريكية). Archived from the original on 2024-04-19. Retrieved 2022-01-02.
2. Kaya, Savas; Rajan, Parthiban; Dasari, Harshita; Ingram, David C.; Jadwisienczak, Wojciech; Rahman, Faiz (18 Nov 2015). "A Systematic Study of Plasma Activation of Silicon Surfaces for Self Assembly". ACS Applied Materials & Interfaces (بالإنجليزية). 7 (45): 25024–25031. DOI:10.1021/acsami.5b08358. ISSN:1944-8244. Archived from the original on 2024-08-31.
3. Yang، X. M.؛ Zhong، Z. W.؛ Diallo، E. M.؛ Wang، Z. H.؛ Yue، W. S. (1 أكتوبر 2014). "Silicon wafer wettability and aging behaviors: Impact on gold thin-film morphology". Materials Science in Semiconductor Processing. ج. 26: 25–32. DOI:10.1016/j.mssp.2014.03.044. ISSN:1369-8001.